CBrAVIC 2018 - Joinville/SC

  Programa

Minicursos

Os mini-cursos serão realizados no dia 8 de outubro, conforme programa abaixo. Serão quatro minicursos para os participantes do congresso, incluindo alunos de graduação e pós graduação, conforme abaixo:

1. Introdução à Ciência e Tecnologia de Vácuo - Prof. Francisco Tadeu Degasperi (FATEC)

     
* Gases e vapores;
     * Fenomenologia e Teoria Cinética dos Gases;
     * Regimes de escoamento de gases;
     * Condutância, vazão e velocidade de bombeamento;
     * Bombas de vácuo; medidores de vácuo;
     * Materiais, técnicas de limpeza e condicionamento em vácuo;
     * Sistema de vácuo de uso geral;
     * Cálculo e especificação de sistemas de vácuo;
     * Análise de gases residuais;
     * Injeção controlada de gases e vapores;
     * Detecção de vazamentos;
     * Estudo de casos em tecnologia de vácuo.

2. Análise de superfícies por XPS - Prof. Peter Hammer (UNESP)


2.1. Interação raios X - Matéria, Efeito fotoelétrico interno e externo

  Fontes de raios X
   * Estrutura eletrônica de materiais 
   * Coeficiente de absorção atômica
   * Processos de Interação e raios X 
   * Matéria e técnicas relacionadas
   * Espalhamento de raios X, XRD, SAXS, Compton
   * Absorção de raios X, EXAFS, XANES
   * Fotoemissão, XPS, UPS
   * Processos de relaxação, AES, XFS 

2.2. Espectroscopia de Fotoelétrons excitados por raios X (XPS) para análise de superfícies

   * Princípios da técnica de Espectroscopia de Fotoelétrons
   * Análise de Materiais por XPS

   * Qualitativa
   * Quantitativa
   * Estrutura local
 
2.3. Exemplos e Conceitos Modernos de Espectroscopia de Fotoelétrons (XPS)

   * Exemplos
   * Ligas metálicas
   * Materiais híbridos
   * Nanotubos de carbono
   * Catálise
   * Conceitos avançados de XPS

   * High pressure cell XPS (HPXPS)
   * Environmental ESCA
   * Scanning photoemission microcopy (SPM)
   * Nano-ARPES


3. Tratamento de superfícies por plasma - Prof. Rodrigo Sávio Pessoa (ITA)

    * Definição e características do plasma
    * Parâmetros de processo (pressão, fluxo, potência, etc.)
    * Espécies reativas no plasma
    * Interações plasma-superfície
    * Reações na superfície (limpeza, corrosão, ativação, deposição)
    * Técnicas de plasmas para tratamento de superfícies - caracteristicas e aplicações
    * Caracterização do tratamento
    * Evolução do tratamento de superfícies por tecnologia de plasmas

4. Microscopia eletrônica - Thiago Soares Pereira (Instituto SENAI de Inovação em Processamento a Laser)

5. Filmes finos: deposição, caracterização e aplicações - Prof. Angelo L. Gobbi (LNNano - CNPEM), Prof. Pedro A. P. Nascente (UFSCar) e Profa. Nazir Monteiro dos Santos (INPE)

    * Introdução
    * Vácuo: Definições e usos
    * Plasma: Definições e usos
    * Limpeza de substratos
    * Métodos de deposição
    * Análise de Superfícies: conceitos básicos
    * Espectroscopia de Fotoelétrons Excitados por Raios X (XPS)
    * Espectroscopia de Elétrons Auger (AES)
    * Análise qualitativa
    * Análise quantitativa
    * Aplicações: superfícies modificadas, filmes finos e revestimentos


Em breve maiores informações serão divulgadas com o programa dos cursos e local de realização dos mesmos. As inscrições nos minicursos podem ser feitas a partir do dia 1 de abril no painel do participante, acessando a guia "Atividades". O custo da inscrição é de R$ 50,00. As vagas são limitadas.

Também será oferecido gratuitamente para estudantes e professores do Ensino Fundamental e Médio o minicurso abaixo:

Ciência e Tecnologia de Vácuo - Prof. Álvaro José Damião (IEAv)

Maiores informações em breve.


Congresso


Programa Preliminar

Horário

8/10/2018

9/10/2018

10/10/2018

11/10/2018

8:30h

Minicursos

Abertura da secretaria

Palestra convidada

Nito Debacher

Palestra convidada

9:20h

Abertura oficial – 9:10h

Apresentação oral

Apresentação oral

9:40h

Palestra convidada – 9:30h

Apresentação oral

Apresentação oral

10:00h

Apresentação oral

Apresentação oral

10:20h

Coffee break

Coffee break

Coffee break

Coffee break

10:35h

Minicursos

Palestra técnico-comercial 

Agilent do Brasil

Apresentação oral

Apresentação oral

10:55h

Apresentação oral

Apresentação oral

Apresentação oral

11:15h

Apresentação oral

Apresentação oral

Apresentação oral

11:35h

Apresentação oral

Apresentação oral

Apresentação oral

11:55h

Almoço

Almoço

Almoço

Almoço

14:00h






Minicursos
Abertura da secretaria

 

 

 

Palestra convidada

Soren Berg

Palestra convidada

Holger Kersten

Palestra convidada

Rafael Molena Seraphim

14:50h

Apresentação oral

Apresentação oral

Apresentação oral

15:10h

Apresentação oral

Apresentação oral

Apresentação oral

15:30h

Apresentação oral

Apresentação oral

Apresentação oral

15:50h

Coffee break

Coffee break

Coffee break

Coffee break

16:05h

Minicursos

Abertura da secretaria

Sessão de pôster

Sessão de pôster

Encerramento

18:00h

 

 

Assembléia da SBV

 

20:00h

Coquetel de recepção

Jantar de confraternização

 


 
Palestras confirmadas:

Holger Kersten (Group Plasma Technology, IEAP, University Kiel, Germany)
On the formation and diagnostics of nanoparticles in process plasmas


Nito Debacher (UFSC)
Applications of plasma in physical and chemical processes


Rafael M. Seraphim (
Laboratório Nacional de Luz Síncrotron – LNLS)
The vacuum system of the Sirius light source


Soren Berg (The Angstrom Laboratory, Uppsala University, Sweden)
Modelling: A tool for better understanding of reactive sputtering processes

 

 

 Patrocínio 

                                
             
           
             
             



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